飼料級維s素D3粉研磨分散機

產(chǎn)品型號： GMD2000

所屬分類：研磨分散機

更新時間：2025-12-24

簡要描述：GMD2000飼料級維s素D3粉研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

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一、產(chǎn)品關鍵詞概述

飼料級維s素D3粉研磨分散機，食品研磨分散機，藥品研磨分散機，管線式研磨分散機，在線式研磨分散機，分體式研磨分散機，不銹鋼研磨分散機

二、維s素D3粉的介紹

此產(chǎn)品由醫(yī)藥級維s素D₃衍生加工。
活性成分：維s素D₃
包合材料：β-環(huán)糊精

淺黃或白色具有特殊氣味的粉末。把維s素D₃分散在植物油中,采用微膠囊化技術將維s素D₃均勻地包埋在碳水化合物中，通過噴霧干燥法生產(chǎn)出的流動性良好的微膠囊粉末。

三、研磨分散機的結構

GMD2000飼料級維s素D3粉研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

上海思峻研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料，是將SGN膠體磨進行進一步的改良，在原來GM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

四、研磨分散機的原理

GMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

研磨頭表面涂料一層及其堅硬的硬質材料，從而使其表面具有非常粗糙的紋理，這種硬質材料是由碳化物、陶瓷等高質量物質構成，并且具有不同的粒徑，研磨頭處形成了一個具有較強的剪切區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和zui后粒徑大小都比研磨分散機GM2000的效果更加理想。

五、GMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

六、研磨分散機的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將先進的技術與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用先進的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產(chǎn)中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

七、研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

八、GMD2000系列研磨分散機設備選型表